TSMC, 3나노 반도체 일본 생산 결정: 일본 경제 및 산업에 미치는 영향

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2/6/2026

토킹 포인트

TSMC의 구마모토 제2 공장에서 3나노 반도체 생산 계획 변경으로, 일본 내 최첨단 반도체 생산 기반 마련.
미국 대비 생산 비용 경쟁력 및 숙련된 인력 확보 용이성 등 일본의 강점을 활용한 TSMC의 전략적 투자 결정.
3나노 반도체 생산을 위한 EUV 노광 장치 도입 및 관련 기술 발전으로, 일본 반도체 산업 생태계 강화 기대.
TSMC의 투자 확대를 통해 일본 내 관련 기업의 진출 가속화 및 경제 파급 효과 증대 전망.

트렌드 키워드

3나노 (3nm):
반도체 회로 선폭의 단위로, 숫자가 작을수록 집적도가 높아지고 성능이 향상됨

“TSMC는 구마모토 제2 공장에서 회로 선폭 3나노미터의 최첨단 반도체를 생산할 계획입니다.”
EUV 노광 장치 (Extreme Ultraviolet Lithography):
극자외선 노광 기술을 사용하는 장비로, 3나노 이하의 미세 회로를 형성하는 데 필수적

“3나노 반도체 생산에는 '극단 자외선(EUV) 노광 장치'라는 최첨단 장비가 필요하며, 공장 운영 및 유지 보수에 고도의 기술이 요구됩니다.EUV 노광 장치”
레거시 반도체 (Legacy Semiconductor):
구형 기술로 생산되는 반도체로, 주로 자동차, 가전제품 등 성숙한 산업에 사용됨

“TSMC 제1 공장은 국내 고객을 대상으로 '레거시(구세대)' 반도체를 생산하지만, 가동률은 50% 정도로 낮은 수준입니다.레거시 반도체”
반도체 공급망 (Semiconductor Supply Chain):

반도체 생산에 필요한 모든 과정과 관련된 기업 및 네트워크

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“공장의 공급망(Supply Chain)에 참여하기 위해서는 더욱 고도의 기술이 요구되며, 지역 기업의 진입 장벽이 높아지고 있습니다.반도체 공급망”
후공정 (Back-end Process):

반도체 웨이퍼를 절단, 패키징, 테스트하는 과정으로, 반도체 생산의 마지막 단계

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“생산된 반도체를 검사하거나 조립하는 '후공정'도 3나노에 대한 대응이 과제이며, 북규슈시로의 진출을 검토하고 있는 대만 ASE 그룹의 동향이 주목됩니다.”