EUV 노광 장치 (Extreme Ultraviolet Lithography)
극자외선 노광 기술을 사용하는 장비로, 3나노 이하의 미세 회로를 형성하는 데 필수적
용례
"3나노 반도체 생산에는 '극단 자외선(EUV) 노광 장치'라는 최첨단 장비가 필요하며, 공장 운영 및 유지 보수에 고도의 기술이 요구됩니다."
극자외선 노광 기술을 사용하는 장비로, 3나노 이하의 미세 회로를 형성하는 데 필수적
"3나노 반도체 생산에는 '극단 자외선(EUV) 노광 장치'라는 최첨단 장비가 필요하며, 공장 운영 및 유지 보수에 고도의 기술이 요구됩니다."