차세대 리소그래피

반도체 회로 패턴을 미세하게 새기는 기술로, 기존 광학 리소그래피의 한계를 극복하기 위해 극자외선(EUV) 리소그래피, 전자빔 리소그래피, 원자 리소그래피 등 다양한 기술이 연구되고 있습니다