AI 기반 마스크 설계
반도체 회로 패턴을 담은 마스크를 설계하는 과정은 매우 복잡하고 시간이 오래 걸립니다. 레이스 리소그래피는 AI 알고리즘을 사용하여 마스크 설계 속도를 획기적으로 향상시켰습니다
용례
"레이스 리소그래피의 AI 알고리즘은 마스크 설계 계산 속도를 15배 이상 향상시켜, 상용화 가능성을 높였습니다."
반도체 회로 패턴을 담은 마스크를 설계하는 과정은 매우 복잡하고 시간이 오래 걸립니다. 레이스 리소그래피는 AI 알고리즘을 사용하여 마스크 설계 속도를 획기적으로 향상시켰습니다
"레이스 리소그래피의 AI 알고리즘은 마스크 설계 계산 속도를 15배 이상 향상시켜, 상용화 가능성을 높였습니다."