4중 노광 (Quadruple Exposure)
회로 선폭을 세밀하게 만들기 위해 빛을 네 번 쏘아 패턴을 형성하는 미세 공정 기술
용례
"CXMT는 4중 노광 기술을 사용하여 11.95nm 임계값에 도달했으며, 이는 세계에서 가장 발전된 양산 메모리 플랫폼 수준에 근접한 것임."
회로 선폭을 세밀하게 만들기 위해 빛을 네 번 쏘아 패턴을 형성하는 미세 공정 기술
"CXMT는 4중 노광 기술을 사용하여 11.95nm 임계값에 도달했으며, 이는 세계에서 가장 발전된 양산 메모리 플랫폼 수준에 근접한 것임."