삼성전자 DRAM 핵심 공정 기술 중국 유출 및 전직 연구원 실형 선고
* 삼성전자 전직 연구원 정 모 씨의 중국 반도체 기업 CXMT로의 DRAM 핵심 기술 유출 혐의 인정 및 실형 선고. * 18나노급 공정 정보 등 600여 개의 세부 제조 단계가 포함된 국가 핵심 기술의 해외 유출 확인. * 기술 개발에 투입된 약 1조 6,000억 원의 비용 및 국가 경제 안보에 미치는 막대한 영향력 강조. * 인공지능(AI) 구현의 필수 요소인 고대역폭 메모리(HBM)와 직결된 기술 보호를 위한 사법부의 엄중한 판결.